CVD SiC обложена графитна глава за туширање

Избрана слика со графитна глава за туширање со CVD SiC

Краток опис:

Графитната глава за туширање со CVD SiC обложена на Semicera е глава за туширање со високи перформанси дизајнирана за напредни процеси на хемиско таложење на пареа (CVD). Со премиум облога од силикон карбид, оваа глава за туширање се истакнува при високи температури и корозивни средини, обезбедувајќи одлични перформанси при ракување со кварц и наполитанки.

Испратете ни е-пошта

Детали за производот

Ознаки на производи

Зошто е обложена силициум карбид?

Semicera со гордост го воведуваCVD SiC обложена графитна глава за туширање, кој е дизајниран да ги задоволи потребите на современото производство на полупроводници. Неговиот уникатенСилициум карбид слојобезбедува одлична термичка отпорност и хемиска стабилност, што го прави важен играч во барањата за CVD апликации.

За време на процесот на хемиско таложење на пареа, главата за туширање на Semicera обезбедува рамномерно таложење на материјалите, што значително ја подобрува ефикасноста на производството и квалитетот на производот. Без разлика дали се обработува кварц со висока чистота илинаполитанки, оваа глава за туширање може ефикасно да ги намали стапките на дефекти и да обезбеди стабилност на процесот.

Покрај тоа, наCVD SiC обложена графитна глава за туширањее компатибилен и соTAC облогатехнологија, обезбедувајќи поголема флексибилност на апликацијата и поширок опсег на апликации. Тимот за истражување и развој на Semicera постојано иновира и е посветен да им обезбеди на клиентите поефикасни решенија за да ги задоволат потребите на пазарот кои постојано се менуваат.

Кога ќе ја изберете CVD SiC обложената графитна глава за туширање на Semicera, ќе добиете ефикасен и сигурен производ кој ќе ви помогне да ги постигнете најдобрите резултати од таложење во вашиот CVD процес. Semicera секогаш инсистира на клиентите да им обезбеди висококвалитетни полупроводнички решенија и да промовира континуиран напредок и иновации во индустријата.