Дома
За нас
Вовед во компанијата
Квалификација и чест
Поле за апликација
CVD облога
Силициум карбид (SiC) керамика
Алумина (Al203) Керамика
Силикон нитрид (Si3N4) Керамика
SiC врзани Si3N4 керамика
Цирконија (Zro2) Керамика
Кварц со висока прецизност
Силиконски парче и нафора
Друг полупроводнички материјал
Центар за печат
Вести од компанијата
Вести од индустријата
Најчесто поставувани прашања
Контактирајте не
Избрана
English
Дома
CVD облога
Монокристални делови за раст
Монокристални делови за раст
Полупроводничка конзола од силициум карбид
SIC конзолен лопатка за дифузија на силикон карбид
Конзолно лопатка од силициум карбид
Порозен тантал карбид, материјал за топло поле за раст на SiC кристали
Тантал карбид (TaC) облоги со висока чистота, висока температурна стабилност и висока хемиска отпорност
Приспособување на производот со тантал карбид со висока чистота
Висококвалитетна облога од тантал карбид (TaC).
English
French
German
Portuguese
Spanish
Russian
Japanese
Korean
Arabic
Irish
Greek
Turkish
Italian
Danish
Romanian
Indonesian
Czech
Afrikaans
Swedish
Polish
Basque
Catalan
Esperanto
Hindi
Lao
Albanian
Amharic
Armenian
Azerbaijani
Belarusian
Bengali
Bosnian
Bulgarian
Cebuano
Chichewa
Corsican
Croatian
Dutch
Estonian
Filipino
Finnish
Frisian
Galician
Georgian
Gujarati
Haitian
Hausa
Hawaiian
Hebrew
Hmong
Hungarian
Icelandic
Igbo
Javanese
Kannada
Kazakh
Khmer
Kurdish
Kyrgyz
Latin
Latvian
Lithuanian
Luxembou..
Macedonian
Malagasy
Malay
Malayalam
Maltese
Maori
Marathi
Mongolian
Burmese
Nepali
Norwegian
Pashto
Persian
Punjabi
Serbian
Sesotho
Sinhala
Slovak
Slovenian
Somali
Samoan
Scots Gaelic
Shona
Sindhi
Sundanese
Swahili
Tajik
Tamil
Telugu
Thai
Ukrainian
Urdu
Uzbek
Vietnamese
Welsh
Xhosa
Yiddish
Yoruba
Zulu
Kinyarwanda
Tatar
Oriya
Turkmen
Uyghur
