Силикон карбид SiC туш глава

Избрана слика за туширање на силициум карбид SiC

Краток опис:

Semicera е високотехнолошко претпријатие кое многу години се занимава со истражување на материјали, со водечки тим за истражување и развој и интегрирано истражување и развој и производство. Обезбедете приспособеноСилициум карбид(SiC）Глава за туширање да разговарате со нашите технички експерти како да ги добиете најдобрите перформанси и пазарна предност за вашите производи.

Испратете ни е-пошта

Детали за производот

Ознаки на производи

Опис

Нашата компанија обезбедуваSiC облогаобработувајте услуги со CVD метод на површината на графит, керамика и други материјали, така што специјалните гасови кои содржат јаглерод и силициум реагираат на висока температура за да се добијат молекули на SiC со висока чистота, молекули депонирани на површината наобложенаматеријали, формирајќи SIC заштитен слој.

Карактеристиките на SiC туш главите се како што следува:

1. Отпорност на корозија: SiC материјалот има одлична отпорност на корозија и може да издржи ерозија на различни хемиски течности и раствори, и е погоден за различни процеси на хемиска обработка и површинска обработка.

2. Стабилност на висока температура:SiC млазнициможе да одржува структурна стабилност во средини со висока температура и се погодни за апликации кои бараат третман со висока температура.

3. Еднообразно прскање:SiC млазницаДизајнот има добри перформанси за контрола на прскање, што може да постигне рамномерна дистрибуција на течноста и да обезбеди рамномерно покриена течноста на целната површина.

4. Висока отпорност на абење: SiC материјалот има висока цврстина и отпорност на абење и може да издржи долготрајна употреба и триење.

Главите за туширање SiC се широко користени во процесите на третман на течности во производството на полупроводници, хемиската обработка, површинското обложување, галванизацијата и други индустриски полиња. Може да обезбеди стабилни, униформни и сигурни ефекти на прскање за да се обезбеди квалитетот и конзистентноста на обработката и третманот.

околу (1)

околу (2)

Главни карактеристики

1. Отпорност на оксидација на висока температура:
отпорноста на оксидација е сè уште многу добра кога температурата е висока до 1600 C.
2. Висока чистота: направена со хемиско таложење на пареа под услови на хлорирање со висока температура.
3. Отпорност на ерозија: висока цврстина, компактна површина, фини честички.
4. Отпорност на корозија: киселина, алкали, сол и органски реагенси.

Главни спецификации на CVD-SIC облогата

Својства на SiC-CVD
Кристална структура	FCC β фаза
Густина	g/cm ³	3.21
Цврстина	Викерс цврстина	2500
Големина на зрно	μm	2~10
Хемиска чистота	%	99,99995
Топлински капацитет	J·kg-1·K-1	640
Температура на сублимација	℃	2700
Фелексурална сила	MPa (RT 4-точка)	415
Модул на Јанг	Gpa (свиткување 4 точки, 1300℃)	430
Термичка експанзија (CTE)	10-6K-1	4.5
Топлинска спроводливост	(W/mK)	300